LegalOn Technologies 執行役員・法務開発責任者/弁護士(日本・ニューヨーク州)の奥村友宏が、2023年11月18日に開催された上海交通大学日本研究センターと経営法友会主催の「日中企業法務フォーラム」にて、講演をいたしました。

「日中企業法務フォーラム」は、日本と中国の企業法務担当者と学識者が、その知見を持ち寄り共有することで、企業法務の発展ひいては、日中両国の発展を目指すフォーラムです。今年で5回目の開催となる本フォーラムで、奥村は「テクノロジーと企業法務」をテーマに、日本におけるリーガルテックの歴史、日本のリーガルテックの現状、今後の日本のリーガルテックの展望について、講演をいたしました。ご出席いただいた方々からは、日本の企業法務におけるテクノロジーの進化や発展について、驚きの声を含む前向きなご意見をいただきました。

また、上海滞在中には、「日中企業法務フォーラム」への登壇に加え、経営法友会の方々と以下の活動を実施させていただきました。
・方達法律事務所への表敬訪問
・上海交通大学日本研究センターへの表敬訪問
・上海において駐在されている経営法友会所属の企業法務を担当されている方々と意見交換

上海でご活躍されている方々との直接の交流を通じて、中国におけるデータプライバシーの問題、中国におけるグループ会社のグループガバナンス、さらに、中国に限らない世界的なAIガバナンスの取り組みなど、上海での非常に実りのある意見交換をさせていただきました。

今後もLegalOn Technologiesは、リーガルテックのリーディングカンパニーとして、業界の成長と発展に貢献にむけた国内及び国際活動を積極的に行ってまいります。